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三星电子推出3纳米芯片制造工艺设计工具和技术

时间:2021-11-22 16:34:04|来源:TechWeb|阅读量:7985   

,据国外媒体报道,上周六,三星电子推出了多款与3纳米芯片制造工艺相关,有助于强化代工生态系统战略的设计工具和技术。 根据此前消息,三星电子的3纳米制程工艺将采用GAA技术与基于FinFET技术的5纳米工艺相比,三星首个3纳米GAA工艺...

,据国外媒体报道,上周六,三星电子推出了多款与3纳米芯片制造工艺相关,有助于强化代工生态系统战略的设计工具和技术。

三星电子推出3纳米芯片制造工艺设计工具和技术

根据此前消息,三星电子的3纳米制程工艺将采用GAA技术与基于FinFET技术的5纳米工艺相比,三星首个3纳米GAA工艺节点的性能将提升30%,功耗将降低50%,芯片面积将减少35%

今年10月份,三星电子宣布,它将于2022年上半年开始量产3纳米芯片,这一时间表将在台积电之前根据消息显示,台积电计划在2022年7月量产3纳米芯片如果按照三星电子的计划,它将成为全球第一家量产3纳米芯片的代工厂

上周,外媒报道称,AMD和高通可能将成为三星3纳米芯片制程工艺的首批客户。全文统计描述:1)搜索关键词:MLCC及其相似或相关关键词;2)搜索范围:标题,摘要,权利说明;3)筛选条件:简单亲族重复申请,法律地位为实质审查,授权,PCT国际公布,PCT进入指定国家(指定期限),简单亲族重复申请按接收地统计。4)统计截止日期为9月3日,2021。5)如有特殊统计口径,在图表下方备注。。

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